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Rumeur | La production de masse des GAAFET 3 nm de Samsung débutera au plus tôt fin juin 2022

Samsung présente le GAAFET comme la meilleure chose depuis, eh bien... FinFET. (Source : Samsung)
Samsung présente le GAAFET comme la meilleure chose depuis, eh bien... FinFET. (Source : Samsung)
Selon les rumeurs, Samsung devrait lancer la fabrication à grande échelle de ses puces 3 nanomètres (3nm) de nouvelle génération d'ici la fin juin ou le début juillet 2022. Cela lui permettrait de devancer son rival TSMC dans l'annonce d'une telle percée. Le géant sud-coréen devrait appliquer sa forme brevetée de transistor à effet de champ à grille circulaire (GAAFET) à son dernier nœud de production de pointe

Samsung aurait été à la traîne de TSMC pour ce qui est d'obtenir de nouvelles puces basées sur la technologie 3nm à des clients potentiels tels que Qualcomm ou AMD. Toutefois, selon les dernières rumeurs, il se pourrait que ce soit l'inverse, car le géant sud-coréen pourrait être en mesure de lancer officiellement les nœuds de production nécessaires dès la semaine prochaine ( ) (du 27 juin au 3 juillet 2022).

Le vice-président de la division électronique de Samsung, Lee Jae-yong, aurait contacté la société ASML, spécialisée dans la fabrication de puces électroniques l'entreprise ASML, spécialisée dans les équipements de fabrication de puces, afin de renforcer les liens avec ce partenaire potentiellement crucial dans la perspective d'un projet de production de plaquettes de 3 nm à l'aide de la technologie ultraviolette extrême (EUV) de l'entreprise néerlandaise pour atteindre une capacité de production de masse.

En outre, Samsung aurait présenté à https://en.yna.co.kr/view/AEN20220622002900320 Joe Biden une démo 3nm lors de la visite officielle du président américain en Corée du Sud en mai 2022. L'entreprise aurait l'intention de fabriquer ses puces de nouvelle génération (qui pourraient constituer la base de processeurs tels que le Apple dont la rumeur parle) M2 Pro et Ryzen 8000 ) sur la base de la structure MBCFET .

Le "Multi-Bridge Channel Field Effect Transistor" est la version brevetée par Samsung du GAAFETqui a pour but d'améliorer le plus traditionnel FinFET en ce sens que le canal (ou les canaux, comme dans les exemples plus récents) de silicium de chaque transistor est entouré d'un matériau d'électrode de grille sur les quatre côtés

Cela permet (selon à Samsungdu moins) permet une réduction générationnelle de la tension opérationnelle, ce qui entraîne une augmentation proportionnelle de l'efficacité énergétique rendement énergétique et des performances des semi-conducteurs. Dans le cas du MBCFET, les canaux peuvent également s'élargir à l'intérieur du matériau de la grille, grâce à un processus révolutionnaire de production de nanofeuillets (par opposition aux nanofils).

Cela devrait (en théorie) permettre une plus grande surface de canal en contact avec celle de la grille, et donc une meilleure exposition au courant TSMCd'autre part, devrait s'en tenir à avec FinFET pour ses puces de 3 nm

Il n'en reste pas moins qu'il détient plus de 50 % de la part du marché des semi-conducteurs en 20 ans de la part du marché des semi-conducteurs en 2022, contre environ 16 % pour Samsung. Ce dernier peut espérer que sa campagne d'investissement en cours, qui s'élève à 150 milliards de dollars US, lui permettra d'atteindre ses objectifs d'investissement peut l'aider à revenir au sommet d'ici à ce que la technologie 3nm devienne la norme haut de gamme en matière de matériel de traitement.

Une infographie de Samsung sur les avantages potentiels du MBCFET. (Source : Samsung)
Une infographie de Samsung sur les avantages potentiels du MBCFET. (Source : Samsung)
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Deirdre O'Donnell, 2022-06-23 (Update: 2022-06-23)